111 wafer di silicio
Nostro<111>I wafer di silicio sono realizzati su misura per soddisfare i severi requisiti delle applicazioni specializzate dei semiconduttori, in particolare dove le caratteristiche uniche del<111>l'orientamento dei cristalli fornisce vantaggi critici. Con una gamma completa di opzioni di personalizzazione in termini di diametro, spessore e resistività, questi wafer offrono precisione e prestazioni eccezionali, progettati per soddisfare le esigenze specifiche di ogni cliente.
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introduzione al prodotto
Panoramica del prodotto
Nostro<111>I wafer di silicio sono realizzati su misura per soddisfare i severi requisiti delle applicazioni specializzate dei semiconduttori, in particolare dove le caratteristiche uniche del<111>l'orientamento dei cristalli fornisce vantaggi critici. Con una gamma completa di opzioni di personalizzazione in termini di diametro, spessore e resistività, questi wafer offrono precisione e prestazioni eccezionali, progettati per soddisfare le esigenze specifiche di ogni cliente.
Caratteristiche principali
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Orientamento del cristallo |
<111> |
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Diametri disponibili |
2 pollici, 3 pollici, 4 pollici, 5 pollici, 6 pollici, 8 pollici, 12 pollici |
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Gradi di qualità |
Prime / Test / Fittizio |
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Metodi di crescita |
CZ (Czochralski) / FZ (Zona Flottante) |
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Tipi di drogante |
Tipo P (boro), tipo N (fosforo, arsenico, antimonio) |
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Opzioni di spessore |
275 μm, 380 μm, 525 μm, 625 μm, 775 μm, 925 μm e spessori personalizzati su richiesta |
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Tolleranza sullo spessore |
Norma ± 25μm; Alta precisione ± 5 μm |
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Intervallo di resistività |
0.001 a 100 ohm-cm |
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Finiture superficiali |
P/E (lucido/inciso), P/P (lucido/lucido), E/E (inciso/inciso), G/G (macinato/macinato) |
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Variazione dello spessore totale (TTV) |
Norma < 10μm; Avanzato < 5 μm |
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Arco/Deformazione |
Norma < 40μm; Avanzato < 20 μm |
Etichetta sexy: 111 wafer di silicio, Cina 111 produttori, fornitori, fabbrica di wafer di silicio
